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EUV Extrem Ultraviolettes Licht

EUV, gemeint ist extrem ultraviolettes Licht, steht für den größten Technologiesprung der vergangenen Jahre in der Chipindustrie. Durch das EUV-Verfahren wird der Halbleiter belichtet und so Chips der nächsten Generation mit Strukturgrößen von unter sieben Nanometern (ein Nanometer gleich ein millionstel Millimeter) ermöglicht. Ohne die EUV-Technologie erwarteten Experten das mögliche Ende des Mooreschen Gesetzes um das Jahr 2025. Intel-Mitgründer Gordon Moore erklärte 1965, dass sich die Komplexität integrierter Schaltkreise auf einem Chip und damit die Zahl möglicher Rechenoperationen pro Sekunde bei gleichbleibenden Komponentenkosten in einem Zeitabschnitt von 12 bis 24 Monaten verdoppelt. Ermöglicht haben diese Technologie, die viel leistungsstärkere und energieärmere Chips für Anwendungen wie KI, Autonomes Fahren, Industrie 4.0 etc. beschleunigen dürfte, die privaten deutschen Unternehmen Zeiss SMT und Trumpf, sowie die börsennotierte niederländische ASML. Der CO2-Hochleistungslaser und damit die Lichtquelle stammt von Trumpf, die Optik von Zeiss. ASML fertigt die auf EUV basierten Produktionsmaschinen.

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Nice Five EUV Extrem Ultraviolettes Licht

Auch in diesen Argumenten enthalten

ASML Holding NV

Die niederländische Firma bezeichnet sich selbst als führender Anbieter optischer Lithografiesysteme für die Halbleiterproduktion. Dabei ermöglicht ASML die Aufbringung des Schaltkreislaufs auf den Wafer.